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低溫等離子清洗機(jī)采用了新型的清洗技術(shù)

更新時(shí)間:2023-09-05   點(diǎn)擊次數(shù):1362次
   等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。
  低溫等離子清洗機(jī)是一種新型的清洗技術(shù),利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。通過(guò)產(chǎn)生等離子體,將氣體轉(zhuǎn)變?yōu)楦吣芪锓N如離子和激發(fā)態(tài)分子,然后利用其化學(xué)反應(yīng)性來(lái)清洗和改善材料表面。氣體被激發(fā)到等離子態(tài),然后在固體表面上吸附,吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子,分析產(chǎn)物分子以形成清潔效果。
  主要包括以下幾個(gè)組成部分:
  1.清洗室:清洗室是設(shè)備中的主要部件,用于容納待清洗的物體。通常由不銹鋼等材料構(gòu)建,并具有真空密封設(shè)計(jì),以確保內(nèi)部氣體壓力和環(huán)境條件的控制。
  2.等離子體源:等離子體源是產(chǎn)生等離子體的關(guān)鍵部件。常見(jiàn)的等離子體源包括射頻(RF)等離子體源和微波等離子體源。它們通過(guò)加熱和激發(fā)氣體,使氣體轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子體,并釋放出高能粒子。
  3.氣體供給系統(tǒng):氣體供給系統(tǒng)用于提供清洗過(guò)程所需的工作氣體。常用的工作氣體包括氮?dú)狻⒀鯕?、氫氣等,根?jù)清洗要求可以選擇不同的氣體組合。
  4.控制系統(tǒng):控制系統(tǒng)用于監(jiān)測(cè)和控制整個(gè)清洗過(guò)程。它可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)氣體流量、溫度、壓力等參數(shù),并調(diào)節(jié)等離子體源的功率和氣體供給量,以確保清洗過(guò)程的穩(wěn)定性和一致性。
 

 

  具有以下優(yōu)點(diǎn):
  1.無(wú)溶劑清洗:使用等離子體清洗技術(shù),不需要使用溶劑,避免了揮發(fā)性有機(jī)物的使用和排放,更環(huán)保。
  2.清洗效果好:等離子體能夠快速氧化分解有機(jī)物,有效去除污染物和氧化層,清洗效果較好。
  3.低溫操作:清洗過(guò)程在常溫下進(jìn)行,不會(huì)對(duì)樣品造成熱損傷,適用于對(duì)熱敏感性物品的清洗。
  4.廣泛應(yīng)用:可應(yīng)用于多種材料表面的清洗和改性,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等。
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